제가 일하는 division에 잡이 오픈되었습니다.

내용은…

We are looking for someone to help us with resist model development.

There are two main requirements.

First, the candidate must be comfortable

with computational mathematics at the level of differential equations and

must have a sufficient scientific background to understand

the physics and chemistry underlying the resist development process.

Actual experience with

resist modelling is desirable but not required.

Second, the candidate must be able to write fast, efficient code in

C or C++. Experience with cache

coherency protocols and multithreading are a plus.

간단히 Lithography분야의 resist modeling에 일할 인력을 찾습니다.

이쪽으로 경험이 있어야 하고(패기만으로 안됩니다.)

resist쪽으로 직접 일않했으도 diffusion equation을 이해 하시는

화학 및 재료쪽분은 괜찮습니다.

물리, 화학, 화학공학, 재료공학 하신분은 더더욱 좋습니다.

최소한 C프로그래밍은 할 수 있어야 합니다.

뛰어난 분은 한국에 있던 미국에 있던 가리지 않습니다.

관심있는 분은 spark@masktools.com으로 메일주시길 바랍니다.

물론 레주메도 함께..